中科院西安光機(jī)所發(fā)明“單晶硅爐水垢的清洗方法”
目前，對單晶硅爐等精密機(jī)械的水垢清洗均采用單一的清洗液來進(jìn)行，但由于上述機(jī)械結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜且包含了多種不同材質(zhì)的零件，這樣造成采用單一的清洗液洗時(shí)無法*清除水垢，也可能導(dǎo)致部分材質(zhì)被腐蝕。無法*清除水垢會(huì)增加上述機(jī)械的實(shí)用成本，而腐蝕部分材質(zhì)時(shí)可能產(chǎn)生巨大的安全隱患。
中科院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所科研人員針對這一問題進(jìn)行了深入研究，發(fā)明出一種清洗單晶硅爐爐內(nèi)所形成水垢的清洗方法，主要應(yīng)用于單晶硅爐等精密機(jī)械的水垢清洗。該方法解決了現(xiàn)有清洗方法不能*清洗單晶硅爐爐內(nèi)的水垢，或清洗時(shí)可能造成單晶硅爐內(nèi)中其他材質(zhì)損壞的問題。
該單晶硅爐水垢的清洗方法是：先將一定量的水放入帶有超聲波振蕩和加熱裝置的儲(chǔ)液箱，將水加熱至10～60℃；將酸液分別緩緩加入儲(chǔ)液箱，開啟超聲波進(jìn)行攪拌；通過清洗液的高速?zèng)_刷和反應(yīng)來清洗水垢等步驟處理，*清洗掉水垢。
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